對于補充問題：首先來說cmos工藝中出現(xiàn)這個光刻柵長也是對應(yīng)于cmos制作中在光刻步驟中由于無論是用電子束光刻，還是深紫外光刻，都會發(fā)生衍射的問題演化出來的,光刻柵長，無論是用電子束光刻，還是深紫外光刻，都會發(fā)生衍射，相當(dāng)于光柵實際長度根物理長度不等光蝕刻的尺度為什么與光的波長相關(guān)而不是與光的振幅相關(guān)。

光刻膠的作用光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工業(yè)的，以后才用于電子工業(yè)。光刻膠是一種有機化合物，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發(fā)生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機理和顯影原理，可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠；反之，對某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。正性膠的顯影工藝與負(fù)性膠顯影工藝對比結(jié)果示意圖利用這種性能，將光刻膠作涂層，就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為三種類型

振幅與光源能量有關(guān)，能量越大，振幅越大。振幅是指振動的物理量可能達到的最大值，通常以A表示。它是表示振動的范圍和強度的物理量。在機械振動中，振幅是物體振動時離開平衡位置最大位移的絕對值，振幅在數(shù)值上等于最大位移的大小。振幅是標(biāo)量，單位用米或厘米表示。振幅描述了物體振動幅度的大小和振動的強弱。在交流電路中，電流振幅或電壓振幅是指電流或電壓變化的最大值，也叫電壓或電流的峰值。在聲振動中，振幅是聲壓與靜止壓強之差的最大值。聲波的振幅以分貝為單位。聲波振幅的大小能夠決定音強。簡諧振動的振幅是不變的，它是由諧振動的初始條件決定的常數(shù)。諧振動的能量與振幅平方成正比。因此，振幅的平方可作為諧振動強度的標(biāo)志。強迫振動的穩(wěn)定階段振幅也是一個常數(shù)，阻尼振動的振幅是逐漸減小的

對于補充問題：首先來說cmos工藝中出現(xiàn)這個光刻柵長也是對應(yīng)于cmos制作中在光刻步驟中由于無論是用電子束光刻，還是深紫外光刻，都會發(fā)生衍射的問題演化出來的。所以光刻出來的柵長要不實際的大，而物理柵長應(yīng)該是指參數(shù)所要求的柵長。這涉及到半導(dǎo)體制造工藝，你要是搞cmos的應(yīng)該知道阿。物理柵長是光柵孔徑的絕對長度，光刻柵長，無論是用電子束光刻，還是深紫外光刻，都會發(fā)生衍射，相當(dāng)于光柵實際長度根物理長度不。