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對(duì)于補(bǔ)充問題：首先來說cmos工藝中出現(xiàn)這個(gè)光刻?hào)砰L也是對(duì)應(yīng)于cmos制作中在光刻步驟中由于無論是用電子束光刻，還是深紫外光刻，都會(huì)發(fā)生衍射的問題演化出來的,光刻?hào)砰L，無論是用電子束光刻，還是深紫外光刻，都會(huì)發(fā)生衍射，相當(dāng)于光柵實(shí)際長度根物理長度不等光蝕刻的尺度為什么與光的波長相關(guān)而不是與光的振幅相關(guān)。1、光刻膠的作用光刻膠的作用光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。1954年由...