光刻中什么i線和g線指的是波長(zhǎng)，i線是指365nm，g線是指436nm，高壓汞燈中能量最高的兩個(gè)譜線。波長(zhǎng)越短，光刻分辨率越高。任務(wù)占坑2，光刻技術(shù)一種將掩膜版的圖形轉(zhuǎn)移到襯底表面的圖形復(fù)制技術(shù)，光刻得到的圖形一般作為后續(xù)工藝的掩膜。（光致刻蝕劑）是由高分子聚合物、增感劑、溶劑以及其他添加劑組成的混合物，在一定波長(zhǎng)的光照射下，高分子聚合物的結(jié)構(gòu)會(huì)發(fā)生改變。正膠顯影液：堿金屬水溶液，如NaOH/NH4OH/TMAH負(fù)膠顯影液：有機(jī)溶劑，如二甲苯等氧化層上的正膠：硫酸：雙氧水=3:1金屬上的正膠：有機(jī)溶劑...